技術パラメータ：

かえんかいせき
特徴濃度（Cu）：0.02 ug/ml/1%
検出限界（Cu）：0.005 ug/ml
精度：RSD≦0.5%
燃焼器：金属チタン燃焼器（100 mm）
スプレー：高効率ガラス霧化器/高効率セラミック霧化器
霧化室：耐食性材料霧化室
位置調整：火炎バーナ高さ自動調整
安全対策：ガス漏れ、空気不足圧、異常消火、非水封自動警報と自動安全保護、舞化室自動圧力、空気常開
黒鉛炉分析
火炎/黒鉛炉は自動的に独立した黒鉛炉システムを切り替え、切り替えを必要としない
特徴量（Cd）：≦0.4 pg
検出限界（Cd）：≦0.5 pg
精度：対カドミウムCd、対銅Cu RSD≦2%
原子化昇温方式：光制御、時間制御、一般昇温
昇温範囲：室温-3000？C
最大昇温率：2000？C/s
安全対策：冷却水流量、保護ガス圧力、炉体温度、黒鉛管取付自動警報と安全保護
バックグラウンド補正
重水素ランプ背景補正自動光学平衡、補正能力≧50倍（1 Abs）
自己吸収背景補正インテリジェントバランス、補正能力≧100倍（1 Abs）、≧80倍以上補正能力（2 Abs）2 A以上のバックル背景誤差≦2%補正可能

グラファイト炉自動サンプラ
サンプル品位：87個
標準カップ容積：サンプル2 ml、改良剤6 ml
基体改質剤の数：3種類
注射器注入システム：500 ul

注入体積：1-100 ul
注入精度：±0.2 ul
機能：自動的に基体改良剤を添加する、補正曲線を自動的に設定して作成する、全知能化自動希釈、注入濃縮と熱注入を複数回繰り返した、自動化により残渣を除去し、交差汚染を除去すると同時に、マイコンにより制御された異なる容積の連続吸入空気隔離により、原液の汚染を防止した、インテリジェント化はサンプリングとサンプリングの深さと速度を調節する。
データ処理
濃度計算方式：標準曲線法（6種類の線形又は非線形曲線）
標準加入法
補間法
繰り返し測定回数：1～30回
数理統計計算平均値は、標準偏差と相対標準偏差を与え、
吸光度と濃度の2種類の統計結果を同時に提供する
その他の特長
計器設定：すべての計器パラメータと計算パラメータの設定をワンタッチで完了する
3つの動作モード：ユーザー定義方法呼び出し、前回の測定を継続、メーカー推奨方法
要素切り替え：光学誤差なしの高速切り替え
オプションアクセサリ水素化物発生器、循環冷却水器

主な特徴：

ぶんこうシステム
光学系：消像差C-T型

光路システム：シングル/デュアルビーム
波長範囲：190.0-900 nm自動調整
波長精度：±0.20 nm（システム自動補正）
波長繰り返し性：±0.05 nm
スペクトル帯域幅：0.1、0.2、0.4、0.7、1.4、2.0 nm自動切り替え
分解能：0.1 nm分解可能マンガン三線（279.5 nmと279.8 nm線ピーク谷≦25%）
ベースラインドリフト：

静的（Cu）±0.003 Abs/30 min
動的（Cu）±0.003 Abs/30 min
ランプラック仕様：8ランプラック自動位置決め、3 D自動調整